多晶硅，是單質(zhì)硅的一種形態(tài)，多晶硅材料是光伏產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)。在生產(chǎn)中，還原爐每運(yùn)行一個(gè)周期，其內(nèi)表面都會(huì)殘留無定形硅，同時(shí)含有氯硅烷水解物及其他粉塵雜質(zhì)。因此每運(yùn)行一個(gè)周期需要采用清洗液，并根據(jù)殘留物分布情況對還原爐基盤和鐘罩分別采用特定的清理工藝進(jìn)行處理。還原工藝是多晶硅生產(chǎn)的關(guān)鍵工藝，其工藝條件和參數(shù)控制好壞直接影響產(chǎn)品質(zhì)量和產(chǎn)量。

 

 

多晶硅在整個(gè)生產(chǎn)過程中，對產(chǎn)品質(zhì)量的控制要求很高，對還原爐的沉積環(huán)境的潔凈度要求特別關(guān)鍵，任何顆粒性雜質(zhì)、油脂等物質(zhì)余留在爐內(nèi)，都會(huì)對產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。北京德高潔清潔設(shè)備有限公司經(jīng)過研發(fā)設(shè)計(jì)并制造出了多晶硅自動(dòng)化還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)，可以完全將多晶硅還原爐鐘罩清洗干凈，滿足生產(chǎn)需求。

 

德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)是以高壓清洗機(jī)為主機(jī)，以高壓水射流為動(dòng)力的自驅(qū)動(dòng)三維旋轉(zhuǎn)噴頭形成360°的網(wǎng)狀高壓水柱噴射表面，從而完成鐘罩內(nèi)部表面的水力掃射，并采用專用清洗劑等為主要清洗液，先用純水(去離子水或叫脫鹽水)漂洗，之后再采用高純水沖洗，最終完成清洗過程。

 

目前國內(nèi)多晶硅鐘罩清洗方主要有高壓清洗、化學(xué)溶劑低壓清洗、機(jī)械拋光等清洗方法，但德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)更具特點(diǎn)：

 

 

1、核心部件高壓泵采用進(jìn)口耐酸堿、耐高溫、全不銹鋼的加壓泵，清洗作業(yè)時(shí)三維旋轉(zhuǎn)噴頭可實(shí)現(xiàn)自驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)、自動(dòng)升降、全方位自動(dòng)清洗，并可保證多晶硅的純度；

 

2、利用多晶硅生產(chǎn)廠家的蒸汽余熱將清洗介質(zhì)加熱，從而改變原電加熱工藝；

 

3、利用多晶硅生產(chǎn)廠家的廠家蒸汽余熱，設(shè)置10萬級空氣凈化換熱裝置代替原氮?dú)怆娂訜岣稍镞�原爐體工藝；

 

4、北京德高潔清潔設(shè)備有限公司自行研發(fā)設(shè)計(jì)的自驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)升降噴射機(jī)構(gòu)可適應(yīng)各規(guī)格的還原爐體；

 

5、由于清洗過程中會(huì)有氫氣和酸性物質(zhì)產(chǎn)生，所以必須解決二次污染問題。我公司自行設(shè)計(jì)的全封閉式清洗裝置可完美解決二次污染；

 

6、設(shè)計(jì)出高壓堿液和清水的供給和分開回收裝置，并進(jìn)行凈化使后序清洗水用于前序的漂洗工序，充分利用了廢水資源。

 

還原爐沉積多晶硅是間歇操作，一個(gè)運(yùn)行周期結(jié)束后需要打開鐘罩收割硅棒，然后進(jìn)行基盤清理，再裝硅芯進(jìn)行下一個(gè)周期的化學(xué)氣相沉積。北京德高潔清潔設(shè)備有限公司研發(fā)生產(chǎn)的多晶硅自動(dòng)化還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)有效解決了生產(chǎn)中的實(shí)際問題，方便、快捷、處理效果好，目前已成為多晶硅還原爐鐘罩清潔的首選。